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內(nèi)容簡介:　　分析電子顯微學(xué)是揭示材料介觀和微觀世界的有力手段，它能對材料顯微組織的形貌、結(jié)構(gòu)、成分進行三位一體的原位分析?！恫牧峡茖W(xué)與工程著作系列：分析電子顯微學(xué)導(dǎo)論（第二版）》是材料科學(xué)與工程專業(yè)碩士研究生的教材。全書共分六章，其內(nèi)容包括分析電子顯微鏡的構(gòu)造及其功能、試樣的制備方法、電子衍射花樣的特征和標(biāo)定方法、晶體衍射中的數(shù)學(xué)處理、電子衍射襯度運動學(xué)和動力學(xué)理論及其應(yīng)用、高分辨和高空間分析電子顯微術(shù)的原理和應(yīng)用以及分析電子顯微學(xué)的進展。
　　《材料科學(xué)與工程著作系列：分析電子顯微學(xué)導(dǎo)論（第二版）》是掌握分析電子顯微術(shù)原理和應(yīng)用的入門書，注重基本的物理概念和相關(guān)的數(shù)學(xué)推導(dǎo)，并通過實例來幫助讀者理解，配以思考題和練習(xí)題使讀者掌握重點?！恫牧峡茖W(xué)與工程著作系列：分析電子顯微學(xué)導(dǎo)論（第二版）》配有電子課件和練習(xí)題參考答案光盤，便于教師授課。《材料科學(xué)與工程著作系列：分析電子顯微學(xué)導(dǎo)論（第二版）》也可作為在該領(lǐng)域?qū)W習(xí)和研究的科技人員的參考書。

作者簡介:

目錄:緒論

第一章 分析電子顯微鏡的構(gòu)造及其功能
1.1 電子波長和電磁透鏡
1.1.1 電子波長
1.1.2 電磁透鏡
1.2 構(gòu)造及其特性
1.2.1 照明系統(tǒng)
1.2.2 多功能試樣室
1.2.3 成像系統(tǒng)
1.2.4 圖像觀察與記錄系統(tǒng)
1.2.5 真空和供電系統(tǒng)
1.2.6 儀器的計算機控制和分析數(shù)據(jù)的計算機處理
1.3 成像、變倍和衍射實現(xiàn)的原理
1.4 理論分辨本領(lǐng)極限
1.5 焦深和場深
參考文獻

第二章 透射電子顯微鏡試樣的制備方法
2.1 表面復(fù)型技術(shù)
2.1.1 一級復(fù)型
2.1.2 塑料一碳二級復(fù)型
2.1.3 抽取復(fù)型
2.2 粉末試樣和薄膜試樣的制備
2.2.1 粉末試樣的制備
2.2.2 薄膜試樣的制備
2.3 塊體試樣制成薄膜的技術(shù)
2.3.1 金屬塊體制成薄膜試樣
2.3.2 無機非金屬塊體制成薄膜試樣
2.3.3 高分子塊體制成薄膜試樣
2.3.4 聚焦離子束方法
參考文獻

第三章 電子衍射
3.1 電子衍射與x射線衍射的比較
3.2 衍射產(chǎn)生的條件
3.2.1 幾何條件
3.2.2 物理條件
3.3 電子衍射幾何分析公式及相機常數(shù)
3.3.1 電子衍射儀中的衍射
3.3.2 透射電子顯微鏡中的衍射
3.4 選區(qū)電子衍射的原理及操作
3.5 多晶電子衍射花樣及其應(yīng)用
3.5.1 多晶電子衍射花樣的產(chǎn)生及幾何特征
3.5.2 多晶電子衍射花樣的應(yīng)用
3.6 單晶電子衍射花樣及其應(yīng)用
3.6.1 單晶電子衍射花樣的幾何特征和強度
3.6.2 單晶電子衍射花樣的標(biāo)定方法
3.6.3 單晶電子衍射花樣的基本應(yīng)用
3.7 大量平行層錯的單晶電子衍射花樣
3.7.1 平面缺陷的衍射
3.7.2 HCP結(jié)構(gòu)的花樣特征和層錯概率的計算
3.7.3 FCC結(jié)構(gòu)的花樣特征和層錯概率的計算
3.8 系統(tǒng)傾轉(zhuǎn)技術(shù)及其應(yīng)用
3.8.1 雙傾臺系統(tǒng)傾轉(zhuǎn)技術(shù)
3.8.2 電子束方向的測定
3.8.3 重位點陣特征參數(shù)的測定
3.8.4 三維重構(gòu)法確定物相
3.8.5 跡線分析方法
3.8.6 位向唯一性的確定
3.9 復(fù)雜電子衍射花樣的特征和標(biāo)定方法
3.9.1 具有取向關(guān)系的電子衍射花樣
3.9.2 孿晶電子衍射花樣
3.9.3 高階勞厄花樣
3.9.4 超點陣衍射花樣
3.9.5 二次衍射花樣
3.9.6 調(diào)幅結(jié)構(gòu)的電子衍射花樣
3.9.7 長周期結(jié)構(gòu)的電子衍射花樣
3.9.8 菊池電子衍射花樣
參考文獻

第四章 晶體衍射中的數(shù)學(xué)處理
4.1 取向關(guān)系的轉(zhuǎn)換矩陣
4.1.1 基體任意位向下兩相取向花樣的預(yù)測
4.1.2 晶體在不同坐標(biāo)下的晶向和晶面指數(shù)的轉(zhuǎn)換矩陣
4.1.3 晶體間的重位點陣
4.1.4 孿晶關(guān)系的轉(zhuǎn)換矩陣
4.2 取向關(guān)系的理論預(yù)測
4.2.1 原理和判據(jù)
4.2.2 FCC／BCC體系
4.2.3 HCP／BCC體系
4.2.4 HCP／FCC體系
4.3 晶體對稱性引起的系統(tǒng)消光
4.3.1 對稱元素及其對應(yīng)操作的矩陣
4.3.2 宏觀對稱元素的組合規(guī)律
4.3.3 點群的推導(dǎo)和轉(zhuǎn)換矩陣
4.3.4 點群、晶系和布拉維點陣之間的關(guān)系
4.3.5 空間群中的平移對稱元素
4.3.6 等效點系
4.3.7 二維點陣、平面點群和平面群
4.3.8 電子衍射花樣的對稱性
4.3.9 系統(tǒng)消光
4.3.1 0 晶體對稱性在結(jié)構(gòu)分析中的應(yīng)用舉例
參考文獻

第五章 電子衍射襯度成像
5.1 電子像襯度的分類及其成像方法
5.1.1 質(zhì)厚襯度成像原理
5.1.2 衍射襯度成像原理
5.1.3 相位襯度成像原理
5.2 衍襯運動學(xué)理論
5.2.1 基本假設(shè)和近似處理
5.2.2 完整晶體衍襯的運動學(xué)方程
5.2.3 完整晶體運動學(xué)衍襯理論的實驗驗證
5.2.4 缺陷晶體衍襯的運動學(xué)理論及其應(yīng)用
5.3 衍襯動力學(xué)理論（波動光學(xué)方程）
5.3.1 電子的散射及其交互作用
5.3.2 完整晶體衍襯動力學(xué)方程
5.3.3 完整晶體的動力學(xué)方程的解
5.3.4 厚度消光和彎曲消光
5.3.5 反常吸收效應(yīng)
5.3.6 缺陷晶體衍襯動力學(xué)方程及其應(yīng)用
5.3.7 缺陷晶體衍襯像的計算機模擬及其應(yīng)用
參考文獻

第六章 高分辨和高空間分析電子顯微術(shù)
6.1 高分辨電子顯微術(shù)
6.1.1 傅里葉變換與卷積理論
6.1.2 高分辨像形成過程描述的兩個重要函數(shù)
6.1.3 弱相位體高分辨像的直接解釋
6.1.4 高分辨像的多層法計算機模擬
6.1.5 高分辨像顯示位錯特征的方法
6.1.6 用高分辨像確定未知晶體結(jié)構(gòu)的方法
6.2 會聚束電子衍射
6.2.1 各種衍射方式及其特點的比較
6.2.2 會聚束電子衍射花樣的形成和特征
6.2.3 HOLZ線的指標(biāo)化
6.2.4 會聚束電子衍射的應(yīng)用舉例
6.3 薄膜試樣的X射線能譜分析
6.3.1 X射線固體探測器的原理
6.3.2 薄試樣成分定量分析原理及特點
6.4 電子能量損失譜及其定量微觀分析
6.4.1 電子能量損失譜儀
6.4.2 電子能量損失譜
6.4.3 電子過濾成像和衍射
6.5 分析電子顯微學(xué)進展
6.5.1 負(fù)球差系數(shù)成像技術(shù)
6.5.2 定量掃描透射電子顯微術(shù)
6.5.3 電子全息術(shù)
參考文獻

附錄1 物理常數(shù)和換算關(guān)系
附錄2 晶體幾何關(guān)系
附錄3 立方晶體的晶面（或晶向）夾角表
附錄4 面心立方、體心立方和密排六方標(biāo)準(zhǔn)電子衍射花樣
附錄5 面心立方、體心立方和密排六方高階勞厄標(biāo)準(zhǔn)電子衍射花樣
附錄6 材料常見的幾種結(jié)構(gòu)
附錄7 立方和六方晶系的極圖（c／α=1.6 33）
附錄8 立方晶體重位點陣特征參數(shù)之間的關(guān)系
附錄9 電子的原子散射振幅
附錄10 特征X射線的波長和能量表
附錄11 用于電子能量損失譜的電子結(jié)合能表（EELS）
附錄12 分析電子顯微學(xué)的有關(guān)計算機軟件
附錄出處說明
思考題與練習(xí)題