硅集成電路工藝基礎（第二版）簡介，目錄書摘
2019-11-15 14:17
來源：京東
作者：京東
硅集成電路工藝基礎（第二版）
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編輯推薦: 《硅集成電路工藝基礎（第二版）》非常值得推薦。
內(nèi)容簡介: 本書是《硅集成電路工藝基礎》的第二版教材，作者在第一版的基礎上系統(tǒng)的講述了硅集成電路制造的基礎工藝，加深了工藝物理基礎和基本原理的介紹。增加了工藝集成例子的介紹。
作者簡介: 關旭東，北京大學信息學院微電子系 職稱：教授 研究方向：硅集成電路的設計和規(guī)劃 主要作品：硅集成電路工藝基礎。
目錄:第一章 硅晶體和非晶體
第二章 氧化
第三章 擴散
第四章 離子注入
第五章 物理氣相淀積
第六章 化學氣相淀積
第七章 外延
第八章 光刻工藝
第九章 金屬化與多層互聯(lián)
第十章 工藝集成
第十一章 薄膜晶體管制造工藝
第二章 氧化
第三章 擴散
第四章 離子注入
第五章 物理氣相淀積
第六章 化學氣相淀積
第七章 外延
第八章 光刻工藝
第九章 金屬化與多層互聯(lián)
第十章 工藝集成
第十一章 薄膜晶體管制造工藝
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